在半導體制造業(yè)中有很多種不同的真空泵。我們把它們分成兩類:初級泵和高級真空泵。初級泵有幾種用途:在腔內(nèi)創(chuàng)造近似中級真空(壓力小于10-3托);清空多腔集成設備中接收硅片的區(qū)域(如真空鎖);為高級真空泵抽氣(見圖1).高級真空泵用來獲得壓力范圍10-3托到10-9托的高級和超高級真空。新型晶片廠中使用的現(xiàn)代真空泵是干性的，意味著其內(nèi)部沒有任何可能回流到工藝腔中沾污硅片的油或潤滑劑。
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